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半导体芯片行业生产废水处理都有哪些

文章来源:污水处理技术 作者:污水处理技术 时间:2019-11-29 10:31:04

  在半导体制造技术中,通过一系列的光刻、刻蚀、沉积、离子注入、研磨、清洗等工艺形成具有各种功能的半导体芯片,然后将所述半导体芯片进行封装和电性测试,并最终形成终端产品。目前,在半导体芯片的制造过程中,会产生大量的工业废水。

  半导体芯片行业将生产废水处理分为:含氨废水处理系统、含氟废水处理系统、CMP研磨废水处理系统及酸碱废水处理系统。

  含氨废水处理系统

  含氨废水有两部分,一部分是浓氨氮废水,主要含氨氮和双氧水,氨氮浓度达400~1200mg/L;另一部分是稀氨废水,主要含氟化氨,氨氮浓度低于100mg/L。

废水处理

  含氟废水处理系统

  工艺中采用CaCl2溶液代替传统去氟采用的消石灰,可减少氟化钙污泥量、原料用量和碱液,同时,可避免粉态消石灰的逸散,防止管道堵塞,易于控制投加量,确保系统的稳定高效运行。

  CMP研磨废水处理系统

  研磨废水处理与含氟废水处理很相近,若从节省投资的角度考虑,可以采用同一系统同时处理含氟和CMP研磨两股废水,否则,将增加额外的投资。

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